plasam清潔設備的使用始于二十世紀初。隨著高新技術產業的快速發展，其運用越來越廣泛。目前，它在許多高新技術領域處于關鍵技術的地位。plasam清洗設備對工業經濟和人類文明的干擾最大，是電子信息產業，尤其是半導體產業和光電產業的首選。plasam清洗設備已運用于制造各種電子元件。可以肯定的是，沒有plasam清洗設備技術，就沒有今天如此發達的電子、信息和通信行業。接下來，分析等離子清洗在ITO領域的運用特點。  

       銦錫氧化物(ITO)是1種重要的透明半導體材料，它一方面有著比較穩定的化學性質，還有著良好的透光性和導電性，因此在光電工業中被廣泛應用。ITO在沉積過程中形成一個高度簡單的n型半導體。在Sn摻雜的情況下，所得到的費米能級Er位于導帶底EC以上，載流子濃度高，電阻率低。此外，ITO有著較寬的光學禁帶，因而可見光和近紅外光的透過率較高。ITO薄膜的上述特性使其在光電器件中得到了廣泛的應用，如光伏電池、電致發光、液晶顯示、傳感器和激光。
       ITO知道ITO是1種非化學計量化合物，沉積條件、后處理工藝和清洗方法會明顯干擾其表面層性能。其中，表面形貌及化學成分分析干擾了ITO膜與有機層界面特性，從而影響了器件的光電性能。因此，在制造設備之前，商用ITO導電玻璃通常需要用適當的方法處理ITO膜表面層。改善了器件的表面層電性能和表面形貌，改善了器件的性能。迄今為止，ITO表面層改性的方法可分為干法和濕法兩種。在這些方法中，干法處理一般采用各種電離氣體等離子體來清洗ITO表面，去除其表面層污染，改善表面形態；濕法處理是通過有機溶劑在ITO表面層間結合新的活性基團來達到改性表面層的目的。
       ITO陽極通過氧plasam清洗設備進行表面層改性。從處理前后ITO膜化學成分分析、晶體結構、透光率和方塊電阻的變化可以看出，未經處理的ITO表面層含有碳相關殘留污染物；plasam清洗設備后，峰值強度明顯降低，說明等離子體處理可以有效去除ITO表面層的有機污染物。plasam清洗設備一方面降低了ITO表面層的碳濃度，而且提高了ITO表面層的氧濃度。從而改善ITO表面層的化學成分分析，這對提高ITO的功能和設備性能非常重要。而且等離子體表面層改性有利于提高有機太陽能電池的能量轉換效率和設備的光伏性能，對提高有機光伏電池的短路電流、填充因子和能量轉換效率起著重要作用。