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CRF plasma 等離子清洗機

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”干式”清潔-等離子體表面處理設備的高效表層清潔

”干式”清潔-等離子體表面處理設備的高效表層清潔:
       干式等離子前處理塑料、鋁甚至玻璃的后期噴涂工藝開創(chuàng)了最理想的表層條件。

等離子體表面處理設備

      等離子清洗是一類”干式”清潔過程,處理后材料可立即進入下一個生產(chǎn)過程,因而等離子體表面處理設備可以是穩(wěn)定高效的工藝過程。由于等離子體的高能量,材料表面的化學物質(zhì)或有機污染物可以分解,有效去除所有可能干擾附著的雜質(zhì),使材料表面滿足后期噴涂過程的良好條件。使用等離子體技術按工藝要求進行表層清潔,表層無機械損傷,無化學溶劑,完整的綠色的綠色環(huán)保工藝、脫模劑、添加劑、增塑劑或其他由碳氫化合物組成的表面污染。

       等離子體表面處理設備外表面清潔能消除粘在塑料表面的非常小的灰塵顆粒。通過一系列的反應和相互作用,等離子體可以從物體表面完全去除這些灰塵顆粒。這可以大大降低高質(zhì)量要求的涂料作業(yè)的廢品率,如汽車工業(yè)的涂料工藝。通過微觀層面的一系列物理和化學作用,等離子體外表面清潔作用可以獲得優(yōu)質(zhì)的表層。

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