誠(chéng)峰crf低溫等離子清洗設(shè)備為何在溫度控制上有：
       誠(chéng)峰crf低溫等離子清洗設(shè)備被各大廠商。工業(yè)上的生產(chǎn)企業(yè)相關(guān)的廠家都會(huì)用到材料表面處理。如果材料的親水性不夠好，加上對(duì)品控的溫度和車間的環(huán)保要求，這代表著低溫等離子清洗設(shè)備將被采用。plasma經(jīng)過清洗、激活、刻蝕、積聚等新工藝增加材料表面的附著力。

      在誠(chéng)峰crf低溫等離子清洗設(shè)備的工作過程中，等離子體真空腔溫度過高。如果清洗材料脆弱，會(huì)燒壞，則需要冷卻等離子體清洗機(jī)。
射頻的電源還可以。如果腔體太大，材料對(duì)溫度非常敏感，則需要加水冷。一般來說，射頻不需要加水冷，因?yàn)樯漕l的電源溫度相對(duì)較低，射頻等離子體清洗機(jī)也是plasma設(shè)備的1種叫法。中頻電源能量大，溫度高，需要加水冷系統(tǒng)。這個(gè)東西需要看具體的清潔材料。
      小型真空等離子體通常不需要增加冷卻系統(tǒng)，因?yàn)樾⌒驼婵胀ǔＳ糜诳茖W(xué)研究，而不是連續(xù)采用。即使使采用中小型頻率電源，如果不連續(xù)采用，溫度也不會(huì)高很多。一些小型誠(chéng)峰crf低溫等離子清洗設(shè)備制造商會(huì)采用風(fēng)扇吹風(fēng)。誠(chéng)峰以前做過，但后來發(fā)現(xiàn)沒有必要。然而，大型等離子體清洗機(jī)是不同的。大型機(jī)器通常整天連續(xù)工作，因此需要冷卻設(shè)備。大型機(jī)器采用水冷冷卻。
       如果真空機(jī)采用干泵，通常需要冷卻。當(dāng)干泵運(yùn)行時(shí)，機(jī)器中的產(chǎn)品會(huì)摩擦并加熱，如果不冷卻，很快就會(huì)燃燒。然而，干泵的價(jià)格非常昂貴。國(guó)內(nèi)誠(chéng)峰crf低溫等離子清洗設(shè)備默認(rèn)為油泵，除非清洗一些特殊材料或有特殊要求。
       溫度控制是誠(chéng)峰crf低溫等離子清洗設(shè)備的1項(xiàng)非常重要的工作。溫度控制清洗效果非常重要。清洗機(jī)工作時(shí)，需要實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)溫度。如果溫度過高，會(huì)立即報(bào)警。