經(jīng)等離子刻蝕機(jī)處理后，鈦表層引入氨基并刻蝕，形成清潔表層:
       鑒于鈦片規(guī)格一定，接入鈦片表層的基團(tuán)數(shù)量比較有限，表明檢測(cè)到的氮總量基本維持恒定，因此當(dāng)氨基數(shù)量較多時(shí)，很難檢測(cè)到氮化鈦。氨和氮在等離子腔中電離。拋光鈦片表層沒(méi)有氧化膜，但氧化鈦膜很快就會(huì)在空氣中形成。

       射頻等離子體蝕刻機(jī)等離子體腔內(nèi)的氮和氫等離子體(如-NH2.-NH.N等)會(huì)躍遷鈦表層，使鈦氧鍵斷裂，與此同時(shí)形成的氫等離子體會(huì)還原表層的氧化鈦，表層一部分純鈦會(huì)暴露在等離子體氛圍中，高能氮和氫的等離子體會(huì)與鈦再次引線(xiàn)鍵合，形成Ti-NH2.TiN或TiN.N-O等新鍵。
       純鈦經(jīng)N2和NH3混合氣體等離子體處理后，表面張力維持在20°左右，表面張力減少50°左右，親水性大大提高。這是因?yàn)殁伇韺咏?jīng)等離子蝕刻機(jī)處理后引入氨基并蝕刻，形成清潔表層。將處理后的鈦片放入空氣中，隨著儲(chǔ)存時(shí)間的增加，其表層親水性減少，根本原因是等離子體處理后表面能高，容易吸附空氣中的雜質(zhì)。因此，清洗后親水性再次測(cè)試，表層親水性大大提高，這是因?yàn)楸韺影被降囊恍┤跏`雜質(zhì)被洗掉。
      射頻等離子刻蝕機(jī)將改性鈦片儲(chǔ)存在稀有氣體中，不僅可以防止鈦片吸收空氣中的雜質(zhì)，還可以減緩等離子刻蝕造成的清潔表層損壞。密封條件好。不滲透空氣和改性表層不接觸其他物質(zhì)可以長(zhǎng)期保持表層親水性，為改性樣品轉(zhuǎn)移到應(yīng)用中提供參考儲(chǔ)存方法。