誠峰智造的等離子體發生器設備在LeD封裝中的應用:
       LeD封裝工序可以直接干擾LeD產品的合格率，其中99%是由支架引起的封裝技術問題，晶片和襯底污染物質、氧化物、環氧樹脂等污物的去除，一直是人們關心的問題，近年來，等離子清洗法作為一種新型清潔技術，為這類問題提供了一種經濟有效、無污染的解決方案。對于不同的污物，根據基片和片材的不同，采用不同的清洗工序可獲得理想的效果，但不正確的工序使用也有可能導致產品報廢，如銀材的芯片采用氧等離子化技術，會氧化變黑甚至報廢。因而在LeD封裝中，挑選適度的等離子清洗工序極為關鍵，而熟悉等離子清洗原理則更為關鍵。一般說來，微粒污物和氧化物采用5%H2+95%Ar混合氣體進行誠峰智造的等離子體發生器設備清洗，鍍金材料晶片可利用氧等離子體除去有機物質，而銀材料芯片不能。在LeD封裝中挑選合適的等離子清洗工序大致可分為以下3個層面：

1、點uv膠前：在底板上的污物會使uv膠呈球形，不利于芯片粘貼，并且容易在手刺芯片時導致損壞，采用等離子體發生器清洗，可顯著改善工件表面粗糙度和親水性，有益于uv膠平整和貼片，還能夠大幅度的地節約膠水用量，降低成本。
2、引線連接前：芯片貼于襯底后經高溫固化，其上所存在的污物可能含有微粒及氧化物等。這些污物在物理、化學作用下，使導線與芯片、襯底之間焊接不完整或粘著不良，導致連接強度不足。引線連接之前進行等離子體發生器清洗，可顯著改善其表面活性，進而提高粘接強度和鍵合引線的拉伸均勻性。膠接刀片的的壓力可以較為低(有污物，鍵合頭要穿透污物，需要更大的的壓力)，有時，粘合溫度也可以降低，進而提高產量，降低成本。
3、LeD封膠前：在LeD注塑過程中，污物會導致氣泡的發泡率較高，進而導致產品品質和使用期限低，因而，防止膠封中氣泡的形成同樣是人們關心的問題。等離子體發生器清洗后，晶片與基片更緊密地結合在一起，大大減少了氣泡的形成，同時也顯著地增加了散熱率，增加了光的發熱量。